I mars 2026 ble det elektroniske-PFA-filteret (perfluoralkoxy) utviklet uavhengig av Junlian Chemical vellykket verifisert og testet av en ledende innenlandsk halvlederwaferfabrikk. Dette filteret er laget av høy-renhet PFA-materiale og høy-perfluorerte membraner, og kan effektivt fjerne nanopartikler og metallioner i fotomaskeringsmidler og etseløsninger. Nøkkelindikatorene har nådd et avansert internasjonalt nivå. Tidligere ble dette markedet monopolisert av amerikanske og japanske bedrifter. Dette gjennombruddet av Junlian Chemical reduserte ikke bare anskaffelseskostnadene for innenlandske halvlederbedrifter, men sikret også sikkerheten til forsyningskjeden.
